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既然在真空管上我国已经错失了最佳发展阶段，那么周天必然不会继续选择真空管，而是瞄准了晶体管。
相较于真空管，晶体管无论是在性能上，还是在应用方面，都有着天壤之别。
体积小、反应速度快、功耗低、制造成本低、易于集成以及可靠性高这六个优点，注定了晶体管的应用范围比真空管广泛得多。
虽说优点众多，但制造难度也是成倍增加。
首先，想要成功设计出一款晶体管，就必须具备极高的材料纯度和微观加工技术。
材料方面还好解决，周天的记忆里存有一份晶体管的材料配方。
然而，微观加工技术以及光刻机、蚀刻机才是最为棘手的难题。
在这个时代，光刻机和蚀刻机在国外也只是处于初步起始阶段。
所以，现在他想要研制出晶体管，绝非仅仅绘制出晶体管设计图就能完成的，还需要同步研究出光刻机与蚀刻机，否则，最终晶体管无法实现量产。
所幸，当下的光刻机还处于起步阶段，光刻机远没有前世那般复杂，主要是接触式或接近式光刻机，它们通过直接让掩模与涂有光刻胶的硅片接触或极为接近来转移图案。
蚀刻机则是用于去除光刻过程中未受保护的材料部分的设备。
1952 年的蚀刻技术为湿法蚀刻，这是一种运用化学溶液来溶解和去除材料的方法。湿法蚀刻相对简单，但控制蚀刻速率和选择性却颇为困难。
而这一难点，自然也难不住周天。
随着周天在图纸上不断绘制出晶体管的设计，瞬间，一股庞大的知识量凭空出现在他的脑海，而后缓缓融入他的记忆之中。就在这一刹那，他仿佛化身为一位精通晶体管制造的工程师。
在脑海虚拟空间记忆的助力下，很快，晶体管便绘制完成。
至于剩下的工作，则是光刻机和蚀刻机的研究。相较于晶体管，光刻机和蚀刻机的结构可要复杂得多。
直到下午下班时，他依旧沉浸在绘图过程中无法自拔。
“厂长，您该下班了！”
就在这时，刘元的声音将他从绘图中惊醒。
“小刘，现在几点了？”